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J-GLOBAL ID:201202272058553244   整理番号:12A1449340

WSiワイヤ付き近-中赤外ワイヤグリッド偏光子の製作

Fabrication of near- or mid-infrared wire-grid polarizers with WSi wires
著者 (4件):
資料名:
巻: 8428  ページ: 84281A.1-84281A.9  発行年: 2012年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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中赤外領域のシリコンより高い透明性を持つY2O3セラミック基板上のサブ波長格子構造を製作した。すなわち,Y2O3セラミック基板とWSi格子とで構成されるワイヤグリッド偏光子を製作した。周期350nmと250nm深さの光子は二ビーム干渉リソグラフィと反応性イオンエッチング(RIE)により素子表面上に形成される。さらに,SiO2基盤とWSi格子で構成される近赤外ワイヤグリッド偏光子も製作した。230nm周期と110nm厚みのWSi格子は二ビーム干渉リソグラフィとRIEにより要素表面に形成された。
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分類 (1件):
分類
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偏光測定と偏光計 
タイトルに関連する用語 (4件):
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