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J-GLOBAL ID：201202272181764853   整理番号：12A0834510

高く且つ階層型の気孔率を持つ窒化珪素セラミックの機械的及び誘電特性

Mechanical and dielectric properties of silicon nitride ceramics with high and hierarchical porosity

著者 (7件)： CHEN Fei (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan 430070, CHN) ,  CAO Feng (National Key Lab. of Sci. and Technol. on Advanced Ceramic Fibers and Composites, Coll. of Aerospace and Materials ...) ,  PAN Haoliang (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan 430070, CHN) ,  WANG Kaiyu (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan 430070, CHN) ,  SHEN Qiang (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan 430070, CHN) ,  LI Jialiang (School of Chemical Engineering, Shandong Univ. of Technol., Zibo 255049, CHN) ,  WANG Siqing (National Key Lab. of Sci. and Technol. on Advanced Ceramic Fibers and Composites, Coll. of Aerospace and Materials ...)
資料名： Materials & Design  (Materials & Design)
巻： 40  ページ： 562-566  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： A0495B  ISSN： 0264-1275  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高く且つ階層型の気孔率を持つ,シリコーン樹脂(SR)処理したSi₃N₄多孔質セラミックを,ナフタレンを気孔生成剤として用いた常圧焼結法で製造した。得られたSi₃N₄多孔質セラミックの気孔率は40~71%で,気孔径は0.1~1.0μm,5~30μmと50~200μmである。これはそれぞれ,SRの熱分解,Si₃N₄の部分焼結,ナフタレンの蒸発によって生じる。曲げ強度は6.8~80MPaで,誘電定数は2.29~4.84である。結果によるとこのSi₃N₄多孔質セラミックの優れた機械的性質と低い誘電定数は,階層型気孔構造が原因である。この材料は電磁レードーム用材料として有望であると考えられる。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 空隙率 ,  *窒化ケイ素 ,  *機械的性質 ,  *誘電性 ,  シリコーン樹脂 ,  多孔質体 ,  細孔径 ,  熱分解 ,  曲げ強さ ,  誘電率 ,  起泡剤 ,  階層構造 ,  *エンジニアリングセラミック ,  レードーム ,  多孔性 ,  芳香族縮合炭化水素 ,  ポリアセン
準シソーラス用語： 多孔質セラミック

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

物質索引 (1件)： ナフタレン

タイトルに関連する用語 (5件)： 階層 ,  気孔率 ,  窒化珪素 ,  セラミック ,  誘電特性