レドックス処理及び非干渉性均質照射によるLiNbO<sub>3</sub>:Fe中の光誘起光散乱の抑制

YAN Wenbo; SHEN Xunan; SHI Lihong; JIA Fangfang; QIAO Huibin; CHEN Hongjian; CHEN Guifeng; LU Yingjie; ZHANG Shaofei; LIN Aidiao

文献

J-GLOBAL ID：201202272826731718 整理番号：12A1237509

レドックス処理及び非干渉性均質照射によるLiNbO₃:Fe中の光誘起光散乱の抑制

Suppression of the photoinduced light scattering in LiNbO₃:Fe by redox treatment and incoherent homogeneous illumination

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資料名：

Applied Physics. A. Materials Science & Processing (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)

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巻： 108 号： 3 ページ： 615-620 発行年： 2012年09月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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レドックス処理及び非干渉性均質照射をLiNbO₃:Fe中の光誘起光散乱を抑制するために試みた。LiNbO₃:Feのホログラフィック記憶特性に対するレドックス処理及び非干渉性均質照射の影響を調べた。実験データは,還元処理はLiNbO₃:Fe中の光誘起光散乱の抑制に対する回折効率を犠牲にすることを示した。対照的に,波長460nmの非干渉性均質照射はLiNbO₃:Feのホログラフィック記憶性能に関して何のトレードオフもなく光誘起光散乱を抑制するのに有効であった。還元処理に対する均質照射の優越性は均質照射下の不変のアクセプタ濃度に帰せられる。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

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