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J-GLOBAL ID：201202273464811404   整理番号：12A0809672

FeCoAlON薄膜の磁気異方性の磁区構造による分析

Analysis of magnetic anisotropy of FeCoAlON thin films by the domain structures

著者 (8件)： LOU Yuanfu ,  YIN Ge ,  ZHENG Fu ,  LUO Feilong ,  BAI Jianmin ,  WU Dongping ,  CAO Jiangwei ,  WEI Fulin
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 79  ページ： 45-47  発行年： 2012年07月15日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 様々な厚さ(55nm~320nm)のFeCoAlON薄膜の磁気特性と磁区構造を詳細に調査した。厚さが増加するのに従って面内の一軸異方性は弱くなり,磁区はクロス-タイ構造からストライプ構造に変化した。これは,比較的厚い薄膜に回転可能異方性が現れることを示している。この回転可能異方性は(110)面の格子間サイトを満たしているN原子に由来する磁気弾性異方性によって引き起こされた応力のためである可能性がある。それは膜面に圧縮応力をもたらし,磁化ベクトルを膜面から傾かせる。比較的薄い膜では強い脱磁気場がストライプ磁区構造の形成を妨げた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *磁気異方性 ,  *磁区構造 ,  圧縮応力 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  アルミニウム化合物 ,  コバルト化合物 ,  鉄化合物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  RFスパッタリング ,  *蒸着膜 ,  スパッタ蒸着 ,  厚膜 ,  電磁弾性 ,  残留磁化 ,  状態 ,  消磁 ,  磁気力顕微鏡
準シソーラス用語： ストライプ磁区 ,  磁気状態

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  磁気異方性・磁気機械効果一般  (BM06101B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  磁気異方性 ,  磁区構造 ,  分析