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J-GLOBAL ID:201202273791699995   整理番号:12A0522207

ディップペンナノリソグラフィーによって調製した分子パターン上のCuナノ構造体の無電解析出

Electroless deposition of Cu nanostructures on molecular patterns prepared by dip-pen nanolithography
著者 (2件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 3377-3382  発行年: 2012年02月28日 
JST資料番号: W0204A  ISSN: 0959-9428  CODEN: JMACEP  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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ディップペンナノリソグラフィーを用いて16-メルカプトヘキサデカン酸(MHA)のドット(直径300nm)およびアレイ(幅250nm,長さ4μm)を金基板上に吸着させた後,非吸着区域に1-オクタデカンチオールを吸着させた。過塩素酸銅水溶液と接触させてMHAのカルボキシル基にCu2+を結合させ,硫酸銅およびクエン酸ナトリウムを含む水溶液からCuを無電解析出させてCuのドットおよびアレイをパターン形成した。原子間力顕微鏡法,走査電子顕微鏡法およびサイクリックボルタンメトリーによってMHAおよびCuナノ構造をキャラクタリゼーションした。
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分類 (2件):
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コロイド化学一般  ,  固-液界面 
物質索引 (3件):
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