化学浴析出によるVドープTiO<sub>2</sub>膜の合成とそれらの性質に及ぼすポスト焼なましの効果

SHOPOVA-GOSPODINOVA Denitsa; JEURGENS Lars P.H.; WELZEL Udo; BAUERMANN Luciana Pitta; HOFFMANN Rudolf C.; BILL Joachim

文献

J-GLOBAL ID：201202273940500439 整理番号：12A0906249

化学浴析出によるVドープTiO₂膜の合成とそれらの性質に及ぼすポスト焼なましの効果

Synthesis of V-doped TiO₂ films by chemical bath deposition and the effect of post-annealing on their properties

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資料名：
巻： 520 号： 18 ページ： 5928-5935 発行年： 2012年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

Ti_1-xV_xO₂固溶相とV₂O₅相で構成された非晶質複合膜が化学浴析出で,そしてその後,550°Cまでの種々の温度で空気焼なましによって製作された。製作され,焼なましされた膜の微細構造と化学組成が走査電子顕微鏡,X線粉末回折,およびX線光電子顕微鏡を使用する組み合わせ実験アプローチによって調べられた。UV-可視分光法が製作され,焼なましされた膜の光学バンドギャップを決定するために適用された。蒸着膜中のバナジウムの取り込みが3.8eVから3.2eVまで光学バンドギャップTiO₂を減少させることが分かった。350°Cまでの膜の焼きなましは,バンドギャップのわずかな増加に導き,それは長距離秩序の漸次進展による初期非晶質酸化物膜の欠陥密度の減少とTi_1-xV_xO₂固溶相でのV⁴⁺ドーパント濃度の同時減少に帰せられた。膜は550°Cで空気中の焼なましにより結晶化した。そして,それは相構成,光学的吸収,そして表面形態の劇的変化を生じた。結晶質TiO₂でのV⁴⁺のより低い溶解度により,V⁴⁺は膜表面に結晶質V₂O₅を形成し,結晶化Ti_1-xV_xO₂固溶相を分離する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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酸化物薄膜 , 塩基,金属酸化物

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化学浴析出によるVドープTiO2膜の合成とそれらの性質に及ぼすポスト焼なましの効果

化学浴析出によるVドープTiO₂膜の合成とそれらの性質に及ぼすポスト焼なましの効果