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J-GLOBAL ID:201202274346939800   整理番号:12A0171635

遠隔プラズマ原子層堆積法により作成された薄膜マイクロ電池用Co3O4アノード材料

Co3O4 as anode material for thin film micro-batteries prepared by remote plasma atomic layer deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 203  ページ: 72-77  発行年: 2012年04月01日 
JST資料番号: B0703B  ISSN: 0378-7753  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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広い温度範囲(100-400°C)でCoCP2をコバルト前駆体として用い,酸素源として遠隔O2プラズマによる遠隔プラズマ原子層堆積法(ALD)により酸化コバルト薄膜を堆積させた。ALDサイクル当たり0.05nmで生長速度は比較的早く,高い堆積密度(~5.8gcm-3)が得られ,化学量論Co3O4であった。電気化学分析の為Co3O4は,Li拡散を防ぐ為にALD合成したTiN層で被覆したSi基板上に堆積した。堆積したままの電極は,電気化学インピーダンス分光法(EIS)と組み合わせた定電流(CC)充電/放電サイクルと定電流断続的滴定法(GITT)を用いた3電極電気化学セルで検討された。文献に比較してALD堆積したCo3O4は高い電気化学活性(~1000mAhg-1)と固体電解質境界面の生成がEISで確認された。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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二次電池 
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