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J-GLOBAL ID：201202275853348054   整理番号：12A0584243

湿式化学エッチングを使用したInGaN発光ダイオードのアンダーカット微細孔の形成と最適化

Formation and optimization of undercut-microholes in InGaN light emitting diodes by using wet chemical etching

著者 (9件)： KIM Hyun-kyu ,  RYU Jae-hyoung ,  KIM Hee-yun ,  KANG Ji-hye ,  HAN Nam ,  PARK Young Jae ,  RYU Beo Deul ,  HONG Chang Hee ,  KIM Hyung Gu
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 13  ページ： 4373-4377  発行年： 2012年04月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 湿式過程で発生するアンダーカット微細孔(UM)の形成と最適化に関して報告する。6μm及び15μm多角形の孔(PH)を有するGaNエピ層を同一条件の選択有機金属化学気相成長法で作製した。試料はKOH溶液またはH₃PO₄:H₂SO₄混合溶液のどちらかで湿式エッチングした。H₃PO₄:H₂SO₄混合溶液でエッチングにした場合,UMの角度はH₂SO₄溶液の増加とともに変化した。KOH溶液によって製作されたエッチングは,非常に単純で,明確な62°のUMを形成した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： エッチング ,  *インジウム化合物 ,  *ガリウム化合物 ,  *窒化物 ,  *発光ダイオード ,  *アンダカット ,  選択成長 ,  MOCVD ,  水酸化カリウム ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： 湿式エッチング ,  有機金属化学気相成長法

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学エッチング ,  InGaN ,  発光ダイオード ,  アンダーカット ,  微細孔 ,  最適化