空気中におけるCF3(CH2)2CHOの光化学:230と340nm間のUV吸着断面と308nmにおける光分解の量子収率

ANTINOLO M.; JIMENEZ E.; ALBALADEJO J.

文献

J-GLOBAL ID：201202276622077682 整理番号：12A0396215

空気中におけるCF₃(CH₂)₂CHOの光化学:230と340nm間のUV吸着断面と308nmにおける光分解の量子収率

Photochemistry of CF₃(CH₂)₂CHO in air: UV absorption cross sections between 230 and 340nm and photolysis quantum yields at 308nm

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資料名：
巻： 231 号： 1 ページ： 33-40 発行年： 2012年03月01日
JST資料番号： D0721B ISSN： 1010-6030 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

この報告はCF₃(CH₂)₂CHOの光化学劣化工程における初めての研究を構成するものである。最初にUV吸収断面,σ_λ,の波長と温度の依存性を確定した。269~323Kの範囲における230と340nm間でC=O発色団のn→π^*電子遷移帯のキャラクタリゼーションを行った。温度が低下すると帯域の構造部分で濃色効果が観察された。323Kにおける最大値σ_λ=283.291nmは269Kのものより22%ほど高いものであった。二番目にCF₃(CH₂)₂CHO/シクロヘキサン(OH-捕捉剤)/空気または窒素の不変な混合物のパルス化したレーザ光分解を308nmで実施した。全圧力(20.5~760Torr)の関数としてCF₃(CH₂)₂CHOの減衰を観察し光分解の量子収率,φ_λ=308nm,を得るためにオンラインのFourier変換赤外(FTIR)分光法を適用した。75Torrよりも低い圧力でStern-Volmerプロットにおける僅かな曲率が観察された。高い圧力においてφ_λ=308nmの圧力依存性はStern-Volmerの関係により説明できた。308nmにおけるCF₃(CH₂)₂CHOの光解離はHCOとCF₃(CH₂)₂ラジカル(1a),CF₃CH₂CF₃とCO(1b)およびCF₃(CH₂)₂COラジカルおよびH原子(1c)を形成した。HCOラジカルはO₂の存在で迅速にCOへ転化した。CF₃(CH₂)₂CHOとCF₃CH₂CH₂OHの形成はチャネル(1a)で形成されたCF₃(CH₂)₂ラジカルを含む二次化学の重要性を明確にした。CF₃CH₂CHOの更なる光劣化は主にCF₃CHOを生じた。少量のHC(O)OHもまた検知された。OH捕捉剤の非存在下でCF₃(CH₂)₂C(O)OHのみが観察され,チャネル(1c)におけるCF₃(CH₂)₂COラジカルの形成は重要な光分解経路ではないことを意味した。この結果,アクチニン領域におけるCF₃(CH₂)₂CHOの光解離は短いふっ素化した酸素化化合物の源であったがふっ素化した酸の源とは予測されなかった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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光化学反応 , 芳香族単環アルデヒド

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