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J-GLOBAL ID：201202276938000606   整理番号：12A0455189

光重合法による新規トポロジカルゲルの合成と特性

Synthesis and Characteristics of Novel Topologycalgel by Photopolymerization

著者 (5件)： 沼田睦章 (関東学院大 工) ,  大久保賢 (関東学院大 工) ,  赤嶺健太 (関東学院大 工) ,  櫻庭英剛 (関東学院大 工) ,  香西博明 (関東学院大 工)
資料名： マテリアルライフ学会誌  (Journal of Materials Life Society)
巻： 24  号： 1  ページ： 10-17  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： L0522A  ISSN： 1346-0633  CODEN： MRGAAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 新しい超分子架橋体(ポリブタジエントポロジカルゲル,PBTG)はシクロデキストリン(γ-CD)オリゴマーとポリブタジエン(PB)の末端にかさ高い基を持つマクロモノマーを混合することで得られた。さらに,PBTGにN,N-ジメチルアクリルアミド(DMAA)を加えて光重合すると,可動性架橋体ゲルが得られた。また,得られたPBTGは化学ゲル(PB-DMAAゲル)と比べて異なる性質を示した。ゲル体は比較的高い熱安定性およびフィルム特性を有していた。10%の熱重量損失開始温度は400°Cであり,ゲルフィルムの静的粘弾性測定における破断点-応力0.325MPa,破断点-歪み590.2%であった。そして,N,N-ジメチルホルムアミド(1580%)および水(1460%)に対して高い膨潤率を示した。(著者抄録)

シソーラス用語： *光重合 ,  *ポリブタジエン ,  オリゴマ ,  シクロデキストリン ,  超分子 ,  架橋【高分子】 ,  末端基 ,  ポリエチレンオキシド ,  ポリロタキサン ,  膨潤 ,  吸水性高分子 ,  ヒドロゲル ,  粘弾性 ,  高分子反応 ,  包接化合物 ,  アルキレンジアミン ,  ジアミン ,  第一アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボアミド ,  アルコール ,  芳香族化合物
準シソーラス用語： *トポロジカルゲル ,  ホスト-ゲスト包接錯体

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子の反応一般  (CG03001G) ,  分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (7件)： 1,6-ジアミノヘキサン ,  N,N-ジメチルアクリルアミド ,  N,N-ジメチルホルムアミド ,  γ-CD ,  イルガキュア2959 ,  トリフェニルメタノール ,  メタクリル酸(2-イソシアナトエチル)

引用文献 (11件)：

• 1) Harada, A., Li, J., Kamachi, M. : Nature, 356, 325 (1992)
• 2) Okumura, Y., Ito, K. : Adv. Mater., 13, 7 (2001)
• 3) Harada, A. : J. Polym. Sci. Part A : Polym. Chem., 44, 5113 (2006)
• 4) Takata, T., Kihara, N., Furusho, Y. : Adv. Polym. Sci., 171, 1 (2004)
• 5) Ito, K. : Polym. J., 39, 489 (2007)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光重合 ,  トポロジカルゲル