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J-GLOBAL ID：201202277132500800   整理番号：12A0625175

ホウ素添加ダイアモンド電極上で電気化学的に生成したヒドロキシフリーラジカルによるその場DNA酸化損傷

In Situ DNA Oxidative Damage by Electrochemically Generated Hydroxyl Free Radicals on a Boron-Doped Diamond Electrode

著者 (2件)： OLIVEIRA S. Carlos B. (Universidade de Coimbra, Coimbra, PRT) ,  OLIVEIRA-BRETT Ana Maria (Universidade de Coimbra, Coimbra, PRT)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 10  ページ： 4896-4901  発行年： 2012年03月13日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気化学的に生成したヒドロキシフリーラジカルによるその場DNA酸化損傷を直接ホウ素添加ダイアモンド電極上で実証した。このDNA-電気化学バイオセンサは,固定化した二本鎖DNA(dsDNA)を分子認識要素として電極上に導入したもので,dsDNAとのその場特異的結合過程を測定する。酸化剤,特に活性酸素(ROS)はdsDNAにおける酸化損傷において重要な役割を果たし,突然変異誘発,発がん,自己免疫炎症および変性神経疾患と強く関係している。ヒドロキシルラジカルは細胞dsDNAの内因性酸化に対して寄与する主たるROSと考えられ,二本鎖および一本鎖の破断,遊離塩基および8-オキソグアニンを生ずる。このdsDNA電気化学バイオセンサを用いホウ素添加ダイアモンド電極上に固定化したdsDNAとその場電気化学発生したヒドロキシルラジカルとの相互作用を研究した。相互作用を受けた電極表面のdsDNA膜の電気泳動移動度から,明らかににその場dsDNAの酸化損傷が生じていることがわかった。

シソーラス用語： *ホウ素 ,  *半導体電極 ,  活性酸素 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  *DNA【核酸】 ,  バイオセンサ
準シソーラス用語： ROS ,  *ダイヤモンド電極 ,  *酸化損傷 ,  *二本鎖DNA

分類 (3件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  電気化学反応  (CB07050F) ,  核酸一般  (EB04010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ホウ素 ,  ダイアモンド ,  電気化学 ,  DNA酸化 ,  損傷