文献

J-GLOBAL ID：201202277289755453   整理番号：12A0444251

フォトリソグラフィ法による一次元ポリマーナノ構造アレイの組立て

Assembly of one-dimensional polymer nanostructure arrays by photolithographic approaches

著者 (7件)： SONG Guojun (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  LI Xiaoru (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  LI Peidong (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  PENG Zhi (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  SHE Xilin (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  LI Jianjiang (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China) ,  SUN Jin (Qingdao Univ., Inst. of Polymer Materials, No. 308 Ningxia Road, 266071, Qingdao, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Porous Materials  (Journal of Porous Materials)
巻： 19  号： 2  ページ： 195-199  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： W1100A  ISSN： 1380-2224  CODEN： JPMAFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,フォトリソグラフィ法と陽極酸化アルミニウム(AAO)テンプレートの濡れにより,異なるパターンを持つ大面積高分子ナノ構造配列を作成した。まず第一に,パターンを持つAAOテンプレートをフォトリソグラフィ法により製造した。次に,AAO/パターン膜を高分子ナノ構造配列を溶液濡れ法と溶融濡れ法により製造する第二の鋳型として用いた。高分子ナノ構造体の形態を走査型電子顕微鏡および透過型電子顕微鏡を用いて特徴づけた。実験過程におけるさまざまな要因を検討した。Copyright 2011 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *アレイ ,  *ナノ構造 ,  *一次元 ,  *フォトリソグラフィー ,  アルミニウム ,  アノード酸化 ,  酸化膜 ,  アルミナ ,  型 ,  濡れ
準シソーラス用語： テンプレート【型】 ,  *ナノアレイ

分類 (1件)： その他の成形  (YH04090Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： フォトリソグラフィ ,  ポリマー ,  ナノ構造 ,  アレイ ,  組立て