文献

J-GLOBAL ID：201202277553085704   整理番号：12A0738989

スパッタAlN薄膜における光学フォノンの寿命

Optical phonon lifetimes in sputtered AlN thin films

著者 (4件)： POBEDINSKAS P. (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  RUTTENS B. (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  D’HAEN J. (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  HAENEN K. (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 19  ページ： 191906-191906-4  発行年： 2012年05月07日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性DCパルスマグネトロンスパッタリングによりシリコン(100)基板上に成膜したAlN薄膜の振動特性を調べた。膜厚の増加とフォノン寿命の延びとの相関を調べるために,X線回折法による構造特性を解析した。AlN薄膜におけるフォノンモードの寿命を単結晶の値と比較した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *窒化アルミニウム ,  半導体薄膜 ,  化合物半導体 ,  *フォノン ,  光学モード ,  縦モード ,  横モード ,  寿命 ,  振動数 ,  格子振動 ,  膜厚 ,  赤外吸収スペクトル ,  マグネトロンスパッタリング
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  *光学フォノン ,  縦光学フォノン

分類 (1件)： 結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： スパッタ ,  AlN ,  薄膜 ,  光学フォノン ,  寿命