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J-GLOBAL ID：201202277629545840   整理番号：12A0546638

ブロック共重合体をベースにした超分子薄膜のモルフォロジーに及ぼす温熱処理溶媒の影響

Effects of Annealing Solvents on the Morphology of Block Copolymer-Based Supramolecular Thin Films

著者 (3件)： HUANG Wei-Han (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  CHEN Po-Yu (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  TUNG Shih-Huang (National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 45  号： 3  ページ： 1562-1569  発行年： 2012年02月14日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3-ペンタデシルフェノール(PDP)のクロロホルム溶液にポリスチレン-b-ポリ(4-ビニルピリジン)(PS-b-P4VP)のクロロホルム溶液を添加(PDP:4VPモル比は1:1)したのち少なくとも1週間撹拌し,PDPがP4VP部位に水素結合した超分子状ブロック共重合体を得た。また,スピンコーティング法を利用してその薄膜を調製した。この薄膜中ではPSブロックは円筒状ミクロドメインとして相分離しているが,薄膜を種々の有機溶媒蒸気中で熱処理することによって円筒状PSの配向を制御できることを見いだした。すなわち,クロロホルムのような酸素を含有しない溶媒蒸気中で温熱処理すると円筒状PSは表面に対して垂直方向に配向するが,THFのような酸素含有溶媒蒸気中で同様に処理した場合には表面に対して平行方向に配向した。本研究は原子間力顕微鏡,透過型電子顕微鏡,GISAXS(微小角入射小角X線散乱法),及び陽子磁気共鳴を利用して行った。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリビニルピリジン ,  *超分子 ,  水素結合 ,  フェノール類 ,  *モルフォロジー ,  温熱処理 ,  有機溶媒 ,  原子間力顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡写真 ,  小角X線散乱 ,  陽子磁気共鳴 ,  酸素複素環化合物 ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボアミド ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン ,  環状エーテル ,  アルキルベンゼン ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： GISAXS

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (8件)： 1,4-ジオキサン ,  3-ペンタデシルフェノール ,  N,N-ジメチルホルムアミド ,  クロロホルム ,  テトラヒドロフラン ,  トルエン ,  ホルムアミド ,  ベンゼン

タイトルに関連する用語 (6件)： ブロック共重合体 ,  超分子 ,  薄膜 ,  モルフォロジー ,  温熱処理 ,  溶媒