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J-GLOBAL ID：201202282813667838   整理番号：12A1367744

BiVO₄薄膜の堆積と特性評価及びメチレンブルー分解の為の光アノードとしての評価

Deposition and characterization of BiVO₄ thin films and evaluation as photoanodes for methylene blue degradation

著者 (8件)： SILVA M. R. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, Engineering Coll., CTI, Bauru, SP, BRA) ,  SILVA M. R. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, POSMAT-Programa de Pos Graduacao em Ciencia e Tecnologia de Materiais, FC, Bauru, SP ...) ,  DALL’ANTONIA L. H. (UEL-State Univ. of Londrina, Dep. of Chemistry, Londrina, PR, BRA) ,  SCALVI L. V. A. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, Dep. of Physics, FC, Bauru, SP, BRA) ,  SCALVI L. V. A. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, Meteorological Res. Inst., Bauru, SP, BRA) ,  SANTOS D. I. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, Dep. of Physics, FC, Bauru, SP, BRA) ,  RUGGIERO L. O. (UNESP-State Univ. of Sao Paulo, Dep. of Physics, FC, Bauru, SP, BRA) ,  URBANO A. (UEL-State Univ. of Londrina, Dep. of Physics, Londrina, PR, BRA)
資料名： Journal of Solid State Electrochemistry  (Journal of Solid State Electrochemistry)
巻： 16  号： 10  ページ： 3267-3274  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： W1021A  ISSN： 1432-8488  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ディップコーティング法と組み合わせた溶液燃焼合成法によって,バナジウム酸ビスマスの薄膜(BiVO₄)を堆積した。熱重量分析は,約300°Cでの単斜晶相の形成に加えて71%の総重量損失を示しており,これはX線回折によっても明らかにされた。紫外-可視光吸収スペクトルはこの膜で約2.5eVの直接バンドギャップ遷移を示し,これは半導体性の単斜晶相と良く一致する。走査電子顕微鏡像からは,500°Cでの熱アニール時間が厚みと粒子の形状を制御するに非常に重要なパラメータであり,10回のディップコートをした堆積層で,膜表面に丸い形状のナノサイズ粒子が均一に分布する約800nmの平均厚みの膜が得られることが明らかになった。Fドープ酸化スズ基板上に堆積したバナジン酸ビスマス膜によるメチレンブルーの光電気化学的分解は,非常に効率的な過程であった。光誘起過程の一次速度定数は暗反応での速度定数の約5倍であり,主として光の存在下でのBiVO₄/Fドープ酸化スズ膜の電気化学的分解能力が示された。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *バナジウム酸塩 ,  薄膜 ,  アノード ,  *光電極 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニウム ,  硫黄複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： ディップコーティング法 ,  *バナジウム酸ビスマス ,  *光アノード

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (1件)： メチレンブルー

タイトルに関連する用語 (8件)： BiVO4 ,  薄膜 ,  堆積 ,  特性評価 ,  メチレンブルー ,  分解 ,  光アノード ,  評価