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J-GLOBAL ID：201202283066301000   整理番号：12A0965873

国宝神庭荒神谷遺跡出土青銅製品の再修理(1)-再修理の方針と問題点を中心に-

著者 (9件)： 石川恵美 (元興寺文化財研) ,  田中由里 (元興寺文化財研) ,  塚本敏夫 (元興寺文化財研) ,  植田直美 (元興寺文化財研) ,  和田一之輔 (文化庁) ,  澤田正明 (島根県古代出雲歴史博物館) ,  増田啓太 (島根県古代出雲歴史博物館) ,  森岡利栄 (島根県古代出雲歴史博物館) ,  足立克己 (島根県古代出雲歴史博物館)
資料名： 日本文化財科学会大会研究発表要旨集  (Annual Meeting of the Japan Society for Scientific Studies on Cultural Property Abstracts)
巻： 29th  ページ： 152-153  発行年： 2012年06月23日 
JST資料番号： L6643A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 遺跡 ,  *青銅 ,  *修理 ,  文化 ,  X線検査 ,  写真撮影 ,  塗布 ,  高分子膜 ,  裏張 ,  和紙 ,  老朽化 ,  GC-MS分析 ,  赤外吸収スペクトル ,  *製品
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  経年劣化 ,  考古遺物 ,  樹脂膜 ,  修復 ,  *青銅製品 ,  文化財 ,  裏打

分類 (3件)： 科学技術一般  (AA01000H) ,  インテリアデザイン,家具  (RB05080N) ,  金属,合金の物理分析  (CC03040V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 谷 ,  遺跡 ,  青銅 ,  修理 ,  問題点