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J-GLOBAL ID：201202283080312848   整理番号：12A0965319

よりよい電気特性をもつ透明グラフェン酸化物電極膜を調製する低温処理法

Low-Temperature Processing Method of Preparing for Transparent Graphene Oxide Electrode Film with Better Electrical Properties

著者 (8件)： KIM Jin Ho (Pukyong National Univ., Busan, KOR) ,  KIM Jin Ho (Mapro. Co., Kyung Nam, KOR) ,  JUNG Jae Mok (Pukyong National Univ., Busan, KOR) ,  KWAK Jun Young (Pukyong National Univ., Busan, KOR) ,  KWAK Jun Young (Mapro. Co., Kyung Nam, KOR) ,  HONG Seung-Soo (Pukyong National Univ., Busan, KOR) ,  GAL Yeong-Soon (Kyungil Univ., Gyeongsan, KOR) ,  LIM Kwon Taek (Pukyong National Univ., Busan, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 12  号： 5  ページ： 4294-4298  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリマ分散剤と化学還元剤としてヒドラジン一水和物を添加したグラフェン酸化物(GO)エチルアルコール懸濁液をイットリア安定化ジルコンビーズを使ってボールミル処理し,柔軟なポリエチレンテレフタレート基板上にワイヤバー塗布法で透明導電性GO電極膜を形成した。550nmの透過率とヘイズおよび表面抵抗に対するボールミル処理時間とヒドラジン添加量の影響を調べた。ボールミル時間は120hが最適で,ヒドラジン処理すると透過率は69%から67%に低下するが,ヘイズは1,1から2.4に増加した。これはヒドラジンによるGO膜の表面粗さが増加するためである。さらにGO膜の表面抵抗は1.5×10⁶から2.1×10⁵Ω/□に減少した。

シソーラス用語： *透明導電膜 ,  *酸化物 ,  *ボールミル ,  *透明電極 ,  表面抵抗 ,  表面粗さ ,  透過率 ,  ヒドラジン ,  懸濁液 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  フレキシブル基板 ,  分散系
準シソーラス用語： *グラフェン酸化物 ,  ヘイズ

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  その他の電気・電子部品  (NA05090R)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電気特性 ,  グラフェン酸化物 ,  調製 ,  低温処理