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J-GLOBAL ID：201202283348886486   整理番号：12A0368792

プラズマ促進化学蒸着n-型炭素膜の特性に及ぼすアンモニア/メタン混合物の影響

Effects of Ammonia/Methane Mixtures on Characteristics of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition n-Type Carbon Films

著者 (4件)： HSUEH Hsiang-Chun (National Tsing Hsing Univ., Hsinchu, TWN) ,  LI Huei-Cheng (National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN) ,  CHIANG Donyau (National Applied Res. Lab., Hsinchu, TWN) ,  LEE Sanboh (National Tsing Hsing Univ., Hsinchu, TWN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 2  ページ： D77-D83  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 恒等の厚みを有するプラズマ促進化学蒸着(PECVD)炭素膜の特性に及ぼすNH₃/CH₄の影響を調べた。発光分析(OES)から,CH,H_α,H_βおよびH_γの割合はNH₃/CH₄比率の増加により減少したが,N₂,NH,CN,およびN₂⁺の割合は増加することが分かった。NH₃/CH₄比率が0から0.2に増加すると,炭素膜の蒸着速度が減少した;結果的に,NH₃/CH₄比率が0.25を超えると,炭素膜を形成できなかった。炭素膜中のN/C比率,CN結合,HN結合およびsp²炭素割合はNH₃/CH₄比率の増加で大きくなったが,炭素膜の水素含有量,規則度,光学バンドギャップ,低下Young率,硬さおよび残留応力は減少した。a:C:H(N)膜をp-Si基板上に蒸着してp-nダイオードを生成すると,a:C:H(N)/p-SiダイオードはNH₃/CH₄比率0.15で最適の電気特性を示した。

シソーラス用語： *炭素 ,  薄膜 ,  炭素化合物 ,  *プラズマCVD ,  薄膜成長 ,  *アンモニア ,  *アルカン ,  発光分析 ,  C-H結合 ,  水素 ,  窒素 ,  窒化物 ,  カチオン ,  堆積速度 ,  蒸着 ,  化学組成 ,  規則度 ,  バンドギャップ ,  Young率 ,  残留応力 ,  ダイオード ,  電気特性 ,  赤外吸収スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  Ramanスペクトル ,  紫外可視吸収スペクトル
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  *プラズマ促進化学蒸着 ,  規則性 ,  原子比 ,  蒸着速度 ,  *炭素膜

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ促進化学蒸着 ,  型 ,  炭素膜 ,  アンモニア ,  メタン ,  混合物