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J-GLOBAL ID：201202284055172604   整理番号：12A1390769

ホスホン酸基で官能化したメソポーラスシリカによる水溶液からのDy(III)の収着

Dy(III) sorption from water solutions by mesoporous silicas functionalized with phosphonic acid groups

著者 (7件)： MELNYK Inna V. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR) ,  GONCHARYK Vasyl P. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR) ,  STOLYARCHUK Natalia V. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR) ,  KOZHARA Lidia I. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR) ,  LUNOCHKINA Anna S. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR) ,  ALONSO Bruno (ICGM, UMR 5253 (CNRS/ENSCM/UM2/UM1), 8, rue de l’Ecole Normale, 34296, Montpellier cedex 5, FRA) ,  ZUB Yuriy L. (National Acad. of Sciences of Ukraine, Chuiko Inst. of Surface Chemistry, 17, General Naumov Street, 03164, Kyiv, UKR)
資料名： Journal of Porous Materials  (Journal of Porous Materials)
巻： 19  号： 5  ページ： 579-585  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： W1100A  ISSN： 1380-2224  CODEN： JPMAFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホスホン基,≡Si(CH₂)₂P(O)(OH)₂で官能化した3種類のメソポーラスシリカの試料のジスプロシウム(III)イオンに対する収着特性を研究した。テンプレートとしてOTABを使用して噴霧乾燥で合成された試料ではDy³⁺イオンの収着と脱離の両方の速度は高いことが判明した。これは吸収剤のポロシティーが明確なためである。不規則構造を持つ架橋したシルセスキオキサンキセロゲルによるDy³⁺イオンの収着は拡散工程によって著しく妨げられた。これは小球体の充填が混沌状態であるためである。化学反応のモデルを使って,表面ホスホン基を持つジスプロシウム(III)錯体の組成を決定し,それらの生成定数は計算した。配位子基(L)の表面濃度が相対的に高いキセロゲルはDyL₃とDyL₄^-の錯体を形成できた。一方,噴霧乾燥法で合成した試料はDyL₂⁺とDyL₃錯体だけを形成した。この試料では,DyL₃錯体がキセロゲルより安定していた。そのため,噴霧乾燥法で得られたメソポーラスシリカは,空間的ポロシティーが明確で錯体形成基の表面濃度が比較的低く,ジスプロシウム(III)に対して最も良い収着特性(吸着と脱着の速度,静的な収着容量の値)を持つとキャラクタリゼーションされた。Copyright 2011 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *多孔質体 ,  *ホスホン酸 ,  官能化 ,  *ジスプロシウム化合物 ,  *収着 ,  *金属イオン ,  鋳型効果 ,  アンモニウム化合物 ,  *ポリシルセスキオキサン ,  架橋【高分子】 ,  *キセロゲル ,  噴霧乾燥 ,  速度論 ,  多孔性 ,  ジスプロシウム錯体 ,  配位子 ,  錯体生成 ,  無機酸エステル ,  縮合反応 ,  ケイ素化合物 ,  アルコラート ,  硝酸塩 ,  *表面改質 ,  脂肪族アルコール ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  アルコキシシラン ,  ポロシティ ,  メソポーラスシリカ ,  錯体形成 ,  硝酸ジスプロシウム

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (2件)： TEOS ,  OTAB

タイトルに関連する用語 (6件)： ホスホン ,  官能化 ,  メソポーラスシリカ ,  水溶液 ,  Dy ,  収着