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J-GLOBAL ID：201202284307002227   整理番号：12A1691211

多様な溶媒選択性刺激をもつブロック共重合体薄膜の階層的応答集合

Hierarchically-responded assembly of block copolymer thin films with stimuli of varied solvent selectivity

著者 (4件)： LEE Yu-chi (Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Taoyuan 32001, Taiwan) ,  SUN Ya-sen (Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Taoyuan 32001, Taiwan) ,  LIOU Jiun-you (Dep. of Chemical and Materials Engineering, National Central Univ., Taoyuan 32001, Taiwan) ,  CHUANG Wei-tsung (National Synchrotron Radiation Res. Center, 101, Hsin-Ann Road, Hsinchu 30076, Taiwan)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 53  号： 25  ページ： 5972-5981  発行年： 2012年11月30日 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ接触インプリンティングとブロック共重合体自己集合の組み合わせにより,対称性ジブロック共重合体の高度脱濡れプロセスが生起し,微細構造およびナノドメインの階層的展開に導く。このプロセスは,シリコン基板上のPS-グラフト化パターンの巨視的六方晶秩序円形構造および多様な選択性の溶媒蒸気での溶媒アニーリングによって駆動される。本報では,P(S-b-4VP)微細構造が多様な選択性をもつ溶媒蒸気への応答におけるパターン化基板上の内部ナノ構造および微視的形状を調整する方法を検討した。THF蒸気中での溶媒アニーリングは半球状キャップをもつナノスフェア型液滴の形成を生起し,クロロホルムおよびアセトン蒸気での溶媒アニーリングは並列配向ラメラのテラス型積層に展開した。ナノスケールおよびマイクロスケール構造における差異は,パターン化基板の閉じ込め下の環境に対する刺激応答性高分子材料の適応に起因する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  *ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  微細構造 ,  *自己集合 ,  選択性 ,  *アニーリング【現象】 ,  溶媒効果 ,  機能性高分子 ,  原子間力顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  モルフォロジー ,  環状エーテル ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン ,  脂肪族ケトン ,  刺激応答性高分子

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (3件)： テトラヒドロフラン ,  クロロホルム ,  アセトン

タイトルに関連する用語 (7件)： 溶媒 ,  選択性 ,  刺激 ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  応答 ,  集合