金属ガラスを用いたナノインプリントのための2Tドット/インチ<sup>2</sup>のナノドットアレイ型の作製

FUKUDA Yasuyuki; SAOTOME Yasunori; NISHIYAMA Nobuyuki; TAKENAKA Kana; SAIDOH Noriko; MAKABE Eiichi; INOUE Akihisa

文献

J-GLOBAL ID：201202285132149374 整理番号：12A1711859

金属ガラスを用いたナノインプリントのための2Tドット/インチ²のナノドットアレイ型の作製

Fabrication of nanodot array mold with 2 Tdot/in.² for nanoimprint using metallic glass

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資料名：
巻： 30 号： 6 ページ： 061602-061602-7 発行年： 2012年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

18nmピッチのナノドットアレイからなる型を作製し,2Tビット/インチ²の面記録密度をもつビットパターン媒体(BPM)の開発のために,金属ガラスのナノインプリンティングを遂行した。とくに,集束イオンビーム支援化学蒸着(FIB-CVD)及び反応性イオンエッチング(RIE)を用いた金属マスクパターニングによるSiO₂/Si型作製の実現可能性を研究した。SiO₂をCHF₃及びO₂の混合ガスによりエッチし,8nmピッチの凸状ナノドットアレイ作製の成功を得た。作製したSiO₂型によりPdベース金属ガラスのナノインプリンティングを試み,微細なナノ細孔パターンの複製を明確に確認した。これらの結果は,提案したFIB-CVD及びRIEプロセスが,超微細ナノドットアレイを作製する有望な方法であること,及び金属ガラスが,超高記録密度をもつBPMのような大量生産ナノ素子に関して優れたナノインプリント可能な材料であることを示唆した。(翻訳著者抄録)

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固体デバイス製造技術一般 , 電子・磁気・光学記録

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金属ガラスを用いたナノインプリントのための2Tドット/インチ2のナノドットアレイ型の作製

金属ガラスを用いたナノインプリントのための2Tドット/インチ²のナノドットアレイ型の作製