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J-GLOBAL ID：201202285556020355   整理番号：12A1405352

光散乱の視点からのフォノン境界散乱の評価

Assessment of phonon boundary scattering from light scattering standpoint

著者 (3件)： JIN LEE Hyun (Dep. of Solar Energy, Korea Inst. of Energy Res., Daejeon 305-343, KOR) ,  SIK JIN Jae (Dep. of Mechanical Engineering, Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon 305-701, KOR) ,  JAE LEE Bong (Dep. of Mechanical Engineering, Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon 305-701, KOR)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 112  号： 6  ページ： 063513-063513-6  発行年： 2012年09月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究では一次元の粗い表面からのフォノン境界散乱を調べる目的で光散乱理論を適用した。鏡面反射のZimanモデルが適用できるのは垂直入射でわずかに粗い面に対してだけであることを示した。比較的粗いGauss型表面に対しては鏡面性でフォノン散乱特性を適切に記述するのは不十分である。代わりに解析に双方向反射率分布関数を全面的に取り入れねばならない。また鋸状の粗い面からのフォノン散乱はGauss型表面からのそれとは粗さパラメータが同程度でも全く異なる。鋸状の粗い面からの多重散乱はフォノンの局在に導き,それがCasimir限界以下での粗いSiナノワイヤの熱伝導低下の原因となる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 表面散乱 ,  *光散乱 ,  鏡面反射 ,  Gauss型線形 ,  *反射率 ,  *分布関数 ,  セレーション ,  多重散乱 ,  改変 ,  ナノワイヤ ,  熱伝導 ,  *フォノン ,  *粗面 ,  ケイ素
準シソーラス用語： *フォノン散乱 ,  鋸状形態 ,  局在化 ,  シリコンナノワイヤ ,  *双方向反射率分布関数

分類 (2件)： 結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光散乱 ,  視点 ,  フォノン ,  境界 ,  散乱 ,  評価