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J-GLOBAL ID：201202286212204305   整理番号：12A1524588

急速熱アニーリングで処理されたrfスパッタ作製ZnO薄膜の微細構造と光学的性質に及ぼす基板と窒素量の影響

Influence of the substrate and nitrogen amount on the microstructural and optical properties of thin r.f.-sputtered ZnO films treated by rapid thermal annealing

著者 (11件)： NICOLESCU Madalina (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  ANASTASESCU Mihai (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  PREDA S. (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  STROESCU H. (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  STOICA M. (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  TEODORESCU V.s. (National Inst. of Material Physics, 105 bis Atomistilor Street, 077125 Bucharest-Magurele, ROM) ,  APERATHITIS E. (FORTH-IESL, Crete, GRC) ,  KAMPYLAFKA V. (FORTH-IESL, Crete, GRC) ,  MODREANU M. (Tyndall National Inst., Univ. Coll. Cork, Cork, Ireland) ,  ZAHARESCU M. (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM) ,  GARTNER M. (Inst. of Physical Chemistry, Romanian Acad., Spl. Independentei 202, 060021 Bucharest, ROM)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 261  ページ： 815-823  発行年： 2012年11月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 太陽電池応用における層の1つに用いることを企図してNドープZnO(ZnO:N)薄膜をZnNターゲット(純度99.9%)を用いたrfスパッタリングによりシリコン基板と溶融石英基板の上に堆積した。気体流組成において,Arは一定(50%)に保たれ,O₂/N₂は40%/10%,25%/25%,10%/40%と変えられた。堆積後,N₂雰囲気中で400°Cと550°Cで1分間の急速熱アニーリング(RTA)を行った。RTAのZnO:N薄膜の光学的性質と構造に及ぼす影響をX線回折(XRD),原子間力顕微鏡(AFM),領域選択電子回折(SAED)と組み合わせた透過型電子顕微鏡(TEM),エネルギー分散X線分光(EDX),UV-可視-近赤外分光,UV-可視-近赤外分光偏光解析,赤外偏光解析法(IR-SE)で研究した。堆積されたZnO:N薄膜は優先配向柱状結晶の多結晶性である。RTA後,ZnO:N薄膜の結晶性の改善と境界欠陥の減少を見出した。ZnO:N薄膜のUVからIRスペクトル領域に至る光学定数を赤外活性フォノンモードと共に報告した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *透明導電膜 ,  *スパッタリング ,  *RTA【熱処理】 ,  *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  RFスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  窒素 ,  ドーピング ,  ウエハ【IC】 ,  石英ガラス ,  優先配向 ,  柱状晶 ,  多結晶 ,  *光学定数 ,  偏光解析法 ,  光吸収スペクトル
準シソーラス用語： 急速熱アニーリング ,  Si基板 ,  *フォノンモード

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： 急速熱アニーリング ,  RFスパッタ ,  作製 ,  ZnO薄膜 ,  微細構造 ,  光学的性質 ,  窒素