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J-GLOBAL ID：201202291165575719   整理番号：12A0936653

最新の研磨加工と計測技術 EUV用高精度非球面計測技術

著者 (1件)： 玄間隆志 (ニコン)
資料名： O plus E  (O plus E)
号： 392  ページ： 625-632  発行年： 2012年06月25日 
JST資料番号： Z0994A  ISSN： 0911-5943  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代の露光装置には波長13nmの極端紫外光(EUV)が用いられ,投影光学系は数枚の非球面ミラーからなる反射光学系によって構成され,EUV投影光学系に用いられる非球面ミラーにはサブnmの面精度が要求される。平面や球面の面精度の計測では基準面を利用する干渉計測が一般的である。被検面が非球面の場合の基準面の問題を解決するための,1)点回折干渉法,2)ヌル干渉法について記述した。また,開発した非球面用三次元測定機および非球面フィゾー型干渉計を使用した測定の繰返し再現性について記述した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  光学系 ,  *非球面鏡 ,  形状精度 ,  *干渉測定 ,  極端紫外線 ,  形状測定 ,  干渉計 ,  再現性
準シソーラス用語： Fizeau干渉計 ,  三次元形状測定 ,  投影光学系

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  その他の光学機器  (QF05060C)

引用文献 (10件)：

• 1) K. Otaki, K. Ota, I. Nishiyama, T. Yamamoto, Y. Fukuda, and S. Okazaki : "Development of the point diffraction interferometer for extreme ultraviolet lithography: Design, fabrication, and evaluation," J. Vac. Sci. Technol. B, Vol, 20, pp. 2449-2458 (2002)
• 2) G. E. Sommargren, D. W. Phillion, M. A. Johnson, N. Q. Nguyen, A. Barty, F. J. Snell, D. R. Dillon, and L. S.Bradsher : "100-picometer interferometry for EUVL," Proc, SPIE, Vol, 4688, pp. 316-328 (2002)
• 3)押鐘寧,片岡俸彦,遠藤勝義,野口彰宏,井上晴行,中野元博: 「光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした 位相シフト光干渉計の開発」,精密工学会誌,VoL 69, No.5, pp.24~28(2003)
• 4) T. Gemma, S. Nakayama, Y. Takigawa, H. Ichikawa, T. Yamamoto, Y. Fukuda, T. Onuki and T. Umeda : "Null testing at 1nm accuracy for the sub-mm asphericity," 2002 Technical Digest paper of Optical Fabrication & Testing (OSA), pp.112-114 (2002)
• 5) Y. Takigawa, S. Nakayama, T. Yamamoto, and T. Gemma : "Absolute accuracy evaluation of aspherical null testing for EUVL mirrors," Proc. SPIE, Vol. 5869, pp.166-176 (2005)

タイトルに関連する用語 (4件)： 研磨加工 ,  計測技術 ,  EUV ,  非球面