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J-GLOBAL ID：201202291828091672   整理番号：12A0651137

高配向カーボンナノチューブの液相一段合成法におけるアルミニウムスパッタリングの効果

著者 (8件)： 横山貴博 ,  山際清史 ,  岡本洋平 ,  藤川洋基 ,  小泉幸平 ,  瀬田悠 ,  綾戸勇輔 ,  桑野潤
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 3  ページ： 1114  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 触媒前駆体フェロセンのメタノール溶液中で,汎用性に富むステンレス基板を抵抗加熱するという安価で簡便な液相一段法により,基板上に高配向カーボンナノチューブ(HACNTA)を合成した。Alをスパッタリングしない基板では,不均一で100μm厚のやや配向したCNTが得られたが,Alをスパッタリングした基板では,270μm厚の均一な長尺HACNTAの合成に成功した。Al薄膜の効果として,CNT形態はほぼ変わらなかったが,約2.7倍の成長促進作用があった。(著者抄録)

シソーラス用語： *カーボンナノチューブ ,  *スパッタリング ,  *アルミニウム ,  抵抗加熱 ,  走査電子顕微鏡 ,  ステンレス鋼 ,  基板
準シソーラス用語： *液相合成

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 配向 ,  カーボンナノチューブ ,  液相 ,  一段合成 ,  アルミニウム ,  スパッタリング