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J-GLOBAL ID：201202291964748456   整理番号：12A0963512

ポリプロピレンナノゲル 「神話または現実」

Polypropylene nanogel: “Myth or reality”

著者 (5件)： OLIANI W.l. (Nuclear and Energy Res. Inst., IPEN-CNEN/SP, Av. Prof. Lineu Prestes, 2242 - Cidade Universitaria - CEP 05508-000 ...) ,  PARRA D.f. (Nuclear and Energy Res. Inst., IPEN-CNEN/SP, Av. Prof. Lineu Prestes, 2242 - Cidade Universitaria - CEP 05508-000 ...) ,  RIELLA H.g. (Federal Univ. of Santa Catarina, UFSC - Univ. Campus - SC - Brazil) ,  LIMA L.f.c.p. (Nuclear and Energy Res. Inst., IPEN-CNEN/SP, Av. Prof. Lineu Prestes, 2242 - Cidade Universitaria - CEP 05508-000 ...) ,  LUGAO A.b. (Nuclear and Energy Res. Inst., IPEN-CNEN/SP, Av. Prof. Lineu Prestes, 2242 - Cidade Universitaria - CEP 05508-000 ...)
資料名： Radiation Physics and Chemistry  (Radiation Physics and Chemistry)
巻： 81  号： 9  ページ： 1460-1464  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： D0627A  ISSN： 0969-806X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の目的は修飾PP中のナノゲルとミクロゲル形成の研究である。ペレット中の修飾PPは線量5,12.5,20kGyでのアセチレン架橋雰囲気下の純粋PPのγ線照射と,後に続くラジカル再結合と残留ラジカルの消滅のための熱処理によって合成した。ポリプロピレンの薄膜ゲルは138°Cで12時間の沸騰キシレンにおける抽出と,続いて,キシレンの全揮発による25°Cの室温でのビーカー中の傾斜法と沈殿法による撹拌下のガラス基板上の乾燥材料膜の堆積によって得た。純粋PPと修飾PP(すなわち照射)から形成した薄膜ゲルは,走査電子顕微鏡(SEM),電界放出走査電子顕微鏡(FESEM),示差走査熱量測定(DSC)を用いて特性評価した。PPの形態は12.5kGyの線量で球粒状濃度と結晶度の増加したナノゲルとミクロゲル形成を示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリプロピレン ,  *ゲル ,  文学 ,  性質 ,  化学修飾 ,  ミクロゲル ,  ペレット ,  放射線量 ,  架橋【高分子】 ,  γ線照射 ,  ラジカル ,  再結合 ,  熱処理 ,  化学合成 ,  薄膜 ,  アルキルベンゼン ,  室温 ,  沈殿 ,  撹拌 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  堆積 ,  傾斜法 ,  走査電子顕微鏡 ,  示差走査熱量測定 ,  形態 ,  濃度 ,  結晶度 ,  アルキン
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  キシレン ,  *ナノゲル ,  揮発 ,  現実 ,  神話 ,  電界放出走査電子顕微鏡

分類 (2件)： 応用物理化学的操作・装置  (XE03000E) ,  ポリオレフィン  (YH07090L)

物質索引 (1件)： アセチレン

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリプロピレン ,  ナノゲル ,  神話 ,  現実