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J-GLOBAL ID：201202292791134020   整理番号：12A0568730

Si(111)-(7x7)上でのN-アリル尿素吸着における競争経路

Competing Pathways in N-Allylurea Adsorption on Si(111)-(7 × 7)

著者 (3件)： DE RENZI Valentina ,  ARNAUD Gaeelle F. ,  PENNINO Umberto del
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 9  ページ： 5673-5680  発行年： 2012年03月08日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分解能電子エネルギー損失分光法,X線光電子分光法および紫外光電子分光の組合せにより,Si(111)-(7x7)表面上でのN-アリル尿素の超高真空吸着を調べた。本表面上での多機能分子の吸着機構を調べる価値あるモデルを得た。次の三つの機構の証拠を得た:(I)ビニル基開裂により残留原子-吸着原子二量体で生じる[2+2]様環状付加,(II)H原子の放出を伴うイミド-ル種(-N=C-OH)を生成するNH₂開裂時と尿素基転位時における吸着分子部位でのSi-N結合,および(III)反応IIがもたらすビニル基開裂とH原子関与による吸着原子部位でのヒドロシリル化。異なる機構間の競争と相互影響を証明した。[2+2]環状付加は残留原子-吸着原子二量体だけで生じ,表面ダングリングボンドを完全に飽和できなかった。水素種の欠乏により,ヒドロシリル化は清浄な本表面で生じなかった。アミン反応はヒドロシリル化代替反応への道を開いた。機構IIは機構IIIが生じるために必要であり,表面反応部位に対して競争した。最終的に,この相互影響は表面ダングリングボンドの完全な飽和をもたらした。

シソーラス用語： 超高真空 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  X線光電子分光法 ,  光電子分光法 ,  *吸着 ,  *ケイ素 ,  *反応機構 ,  スペクトル線帰属 ,  ヒドロシリル化 ,  環状付加 ,  ダングリングボンド
準シソーラス用語： 紫外光電子分光

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： N-アリル尿素

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  N-アリル尿素 ,  吸着 ,  競争 ,  経路