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J-GLOBAL ID：201202294283783430   整理番号：12A0562396

NMR分光法により検討したポストスルホン化ポリエーテルスルホンのスルホン化度と微細構造

Degree of sulfonation and microstructure of post-sulfonated polyethersulfone studied by NMR spectroscopy

著者 (5件)： KOMBER Hartmut (Leibniz-Institut fuer Polymerforschung Dresden e.V., Hohe Strasse 6, 01069 Dresden, DEU) ,  CHAKRABORTY Sourav (Leibniz-Institut fuer Polymerforschung Dresden e.V., Hohe Strasse 6, 01069 Dresden, DEU) ,  CHAKRABORTY Sourav (Materials Sci. Centre, Indian Inst. of Technol., Kharagpur 721302, IND) ,  VOIT Brigitte (Leibniz-Institut fuer Polymerforschung Dresden e.V., Hohe Strasse 6, 01069 Dresden, DEU) ,  BANERJEE Susanta (Materials Sci. Centre, Indian Inst. of Technol., Kharagpur 721302, IND)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 53  号： 8  ページ： 1624-1631  発行年： 2012年04月03日 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 4,4′-ジヒドロキシ-2,2-ジフェニルプロパン(ビスフェノール-A)とジクロロジフェニルスルホンに基づく市販ポリエーテルスルホン(Udel-1800)温和な条件下でクロロスルホン酸トリメチルシリルを使用して,後スルホン化した。部分的スルホン化ポリエーテルスルホンを,それらの酸および/またはナトリウム塩の形で¹Hおよび¹³C NMRにより検討した。いくつかの¹³C NMR信号は,トリアッドのレベルまで割り当て可能であった。¹³C-T₁緩和時間を,定量的な¹³C NMR測定のための条件を確保するため,すべての炭素の反転回復法によって決定した。さらに,核Overhauser強化が与えた。¹Hおよび¹³C 双方のNMR分光法により決定された試料のスルホン化度(DS)は13.6%から100%までの範囲であった。NMRスペクトルは,スルホン化がエーテル結合に対しオルト位置のジオキシ-2,2-ジフェニルプロパン単位の各フェニル環のモノ置換として単独に発生していることを確認した。すべての重合体の微細構造をジオキシ-2,2-ジフェニル系ダイアッドおよびジフェニルスルホン中心トリアッドの含有率から評価した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *スルホン化 ,  *ポリエーテルスルホン ,  *微細構造 ,  二次元NMR ,  *高分子反応 ,  Overhauser効果 ,  *分子構造 ,  有機ケイ素化合物 ,  スルホン酸 ,  置換率 ,  求電子置換反応 ,  フェノール類
準シソーラス用語： HSQC ,  トリメチルシリル化合物

分類 (1件)： 高分子の反応一般  (CG03001G)

物質索引 (4件)： 4,4′-ジクロロジフェニルスルホン ,  クロロスルホン酸 ,  ビスフェノールA ,  クロロスルホン酸トリメチルシリル

タイトルに関連する用語 (4件)： NMR分光法 ,  スルホン化 ,  ポリエーテルスルホン ,  微細構造