文献

J-GLOBAL ID：201202294556750727   整理番号：12A1367803

高周波グロー放電発光分光分析による被膜の元素分析

Elemental analysis of coatings by high-frequency glow discharge optical emission spectroscopy

著者 (1件)： KIRYUKHANTSEV-KORNEEV Ph. V. (National Univ. of Sci. and Technol. “MISIS”National Univ. of Sci. and Technol., Leninsky pr. 4, 119049, Moscow, RUS)
資料名： Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces  (Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces)
巻： 48  号： 5  ページ： 585-590  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： W1019A  ISSN： 2070-2051  CODEN： PTNMAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グロー放電発光分光分析の物理的基礎について考察した。グロー放電発光分光分析による被膜の化学分析のための装置の概要についてProfiler2装置(堀場 Jobin Yvon)を例に説明した。種々の被膜および表面処理法について比較した。この研究に基づけば,スパッタリングパラメーターを精度良く調整しない基本的測定状態に置いては,被膜の最大分析深さは約80μm,深さ方向の分解能は10~20nmである。セラミックス,ガラス,ポリマーを含むどのような基板と被膜材料の組合わせにおいても分析可能である。Copyright 2012 Pleiades Publishing, Ltd. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 原子発光分析 ,  HF【周波数】 ,  *皮膜 ,  *元素分析 ,  スパッタリング ,  深さ ,  分解能 ,  セラミック ,  ガラス ,  重合体
準シソーラス用語： *グロー放電発光分光分析 ,  ポリマ

分類 (2件)： その他の物質の物理分析  (CC03100M) ,  分光分析  (CC03012W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高周波 ,  グロー放電発光分光分析 ,  被膜 ,  元素分析