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J-GLOBAL ID：201202295000531755   整理番号：12A1670615

真空焼結とHIP処理によるCr50Cu50合金ターゲットの焼結挙動と電気的性質

Sintered Behaviors and Electrical Properties of Cr50Cu50 Alloy Targets via Vacuum Sintering and HIP Treatments

著者 (3件)： CHANG Shih-hsien (Dep. of Materials and Mineral Resources Engineering, National Taipei Univ. of Technol.) ,  CHEN Szu-hung (Dep. of Materials and Mineral Resources Engineering, National Taipei Univ. of Technol.) ,  HUANG Kuo-tsung (Dep. of Auto-Mechanics, National Siluo Agricultural Industrial High School)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 53  号： 9  ページ： 1689-1694 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粉末冶金はCr-Cu合金製造のための従来的プロセスである。機能強化した真空焼結技術およびHIPプロセスを適用して,焼結パーツの密度をより高くしポロシティを減少させることができる。Cr50Cu50合金ターゲットの最適焼結プロセスは1270°C,1hであり,合金ターゲットは密度が高く電気抵抗が低くなる。また,実験の結果,Cr50Cu50真空焼結ターゲットの相対密度が99.42%に達し,見掛けポロシティが1050°C,175MPa,4hのHIP処理後に0.54%に減少する。焼結したCr-Cu合金の結晶性質を改善し,合金を改善し,抵抗は589×10^-8Ωcmに減少した。HIP最適処理によって,IACSも向上し29.27%になった。適切なHIP処理を利用して,焼結Cr50Cu50合金ターゲットの最適性質を製造することができる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *HIP【ホットプレス】 ,  *焼結 ,  *クロム合金 ,  銅含有合金 ,  金属間化合物 ,  ターゲット ,  *電気的性質 ,  焼結合金 ,  空隙率 ,  相対密度 ,  粉末冶金 ,  電気抵抗率 ,  銅合金 ,  クロム含有合金 ,  接点材料 ,  電気接点
準シソーラス用語： 真空焼結

分類 (2件)： 圧粉,焼結  (WC02030X) ,  電気的性質  (WB02010Y)

引用文献 (15件)：

• 1) E. V. Khomenko, G. A. Baglyuk and R. V. Minakova: Powder Metall. Met. Ceram. 48 (2009) 211–215.
• 2) W. He, E. Wang, L. Hu, Y. Yu and H. Sun: J. Mater. Process. Technol. 208 (2008) 205–210.
• 3) W. Li, R. L. Thomas and R. Kirkland: IEEE Trans. Plasma Sci. 29 (2001) 744–748.
• 4) A. Lamperti, P. M. Ossi and V. P. Rotshtein: Surf. Coat. Technol. 200 (2006) 6373–6377.
• 5) O. I. Get’man, N. D. Lesnik, R. V. Minakova and E. V. Khomenko: Powder Metall. Met. Ceram. 45 (2006) 215–220.

タイトルに関連する用語 (6件)： 真空焼結 ,  HIP ,  ターゲット ,  焼結 ,  挙動 ,  電気的性質