抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ポリふっ化ビニリデン(PVDF)限外ろ過(UF)膜および2種のSiO
2(N-SiO
2およびM-SiO
2)低含有PVDF複合材料膜の形態と性能の比較を行った。膜の断面積および表面形態を走査型電子顕微鏡および原子間力顕微鏡によって観察した。多孔質膜の表面親水性を接触角の測定によって確認した。水フラックスおよびウシ血清アルブミン(BSA)保持時間によって複合材料膜について性能試験を行った。透過フラックスに基づいて平均細孔径および表面間隙率を計算した。熱重量分析および引張応力試験によって熱安定性および機械的安定性を測定した。結果はN-SiO
2/PVDF(P-N)膜は平均細孔径と間隙率を有し,それが高水フラックスとBSA保持時間の減少の原因になることを示した。他方,M-SiO
2/PVDF(P-M)膜は,高い機械的安定性と汚れ防止性能を有し,膜の親水性が強化され表面粗さが低下する。P-NおよびP-M)膜は両方とも代表的な非対称形態と改善された熱安定性を示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.