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J-GLOBAL ID：201202295393979540   整理番号：12A0735072

TiO₂-B₂O₃-KF-LiFメルトからのTiB₂のグラファイトへのパルス電着

Pulse Electro-deposition of TiB₂ onto Graphite from TiO₂-B₂O₃-KF-LiF Melts

著者 (5件)： LI Bing (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  JIANG Lushan (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  WANG Heng (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  WENG Zhiwei (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  ZHAO Zhuxin (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN)
資料名： Light Metals (Cham)  (Light Metals (Cham))
巻： 2012  ページ： 1373-1376  発行年： 2012年 
JST資料番号： B0476B  ISSN： 2367-1181  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルミニウム電解製錬において,TiB₂は電解セルの理想的なカソードライニングの要求を満足しているとみなされている。本研究では,TiO₂-B₂O₃-KF-LiFメルトからのTiB₂被覆の品質を改良するため,サイクリックボルタンメトリーによりTi⁴イオンとB³イオンの還元過程を調べた。連続電流めっき(CCP)およびパルス電流めっき(PCP)により800°Cのメルトからグラファイト基板上にTiB₂被覆を作製した。メルト中でB³は一段階で還元され,B/Tiモル比はTi⁴とB³の還元過程に強い影響を与えた。800°CにおけるPCPにより,基板と密着性の良い均一で緻密な被覆が得られた。

シソーラス用語： *アルミニウム製錬 ,  電解採取 ,  *カソード ,  *表面処理 ,  被覆 ,  電着 ,  ジルコニウム化合物 ,  ホウ化物 ,  融解塩 ,  フッ化カリウム ,  フッ化リチウム ,  酸化ホウ素 ,  酸化チタン ,  サイクリックボルタンメトリー ,  還元 ,  密着性 ,  緻密化 ,  耐食性 ,  表面構造 ,  相組成 ,  表面被覆
準シソーラス用語： パルス電着 ,  ホウ化ジルコニウム ,  界面組織

分類 (1件)： 製錬  (WD02030A)

タイトルに関連する用語 (8件)： TiO2 ,  B2O3 ,  KF ,  LIF ,  メルト ,  TiB2 ,  グラファイト ,  パルス電着