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J-GLOBAL ID：201202296355258533   整理番号：12A1315891

感光性高分子による3Dモノリシックマイクロフルイディクスデバイス製作用のコンフォーマル吸着膜(CAF)を使用した多層ボンディング

Multilayer bonding using a conformal adsorbate film (CAF) for the fabrication of 3D monolithic microfluidic devices in photopolymer

著者 (6件)： GUTIERREZ-RIVERA L (Univ. Alberta, AB, CAN) ,  MARTINEZ-QUIJADA J (Univ. Alberta, AB, CAN) ,  JOHNSTONE R (Teledyne DALSA, Quebec, CAN) ,  ELLIOTT D (Univ. Alberta, AB, CAN) ,  BACKHOUSE C (Univ. Waterloo, Ontario, CAN) ,  SAMEOTO D (Univ. Alberta, AB, CAN)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 22  号： 8  ページ： 085018,1-12  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラボオンチップ(LOC)システムの開発には,マイクロチャネルネットワーク,マイクロバルブやセンサのような複雑な3D構造のCMOSデバイスへの集積法の開発が重要である。本稿では,新しいコンフォーマル吸着膜(CAF)を使ってパターン形成した感光性高分子(KMPR)に接着して3Dモノリシック多層構造を製作する新しい方法について報告した。約15nm厚みのCAFをKMPR上に形成し,接着界面にオープン高分子鎖数を増やし,超薄接着層とする。この超薄接着層はマイクロフルイディクス構造と同じ感光性高分子で作られているが非常に弱い架橋密度であるため,熱圧着ボンディングで良好な接着ができる。この技術で最大6層の接着ができた。ボンディング歩留りは99%であった。

シソーラス用語： *感光性高分子 ,  CMOS構造 ,  パターン形成 ,  薄膜 ,  吸着 ,  フルイディクス ,  マイクロマシン ,  架橋度 ,  接合 ,  歩留り ,  多層構造 ,  *マイクロフルイディクス
準シソーラス用語： ラボオンチップ ,  架橋密度 ,  *吸着膜 ,  熱圧着

分類 (2件)： 流体式制御機器  (IC02030J) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 感光性高分子 ,  3D ,  製作 ,  吸着膜 ,  CAF ,  多層 ,  ボンディング