特許
J-GLOBAL ID：201203000020318334
微細パターン成形品の製造方法、スタンパおよび微細パターン成形品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 江間 晴彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-051827
公開番号（公開出願番号）：特開2012-187762
出願日： 2011年03月09日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：
【課題】2P法を用いて作製される微細構造転写物の厚みムラを低減すること。【解決手段】(i)微細パターンAを備えたスタンパと透明基板とを用意し、スタンパまたは透明基板上に光硬化性樹脂原料を供する工程、(ii)光硬化性樹脂原料を挟むようにしてスタンパと透明基板とを対向配置させる工程、および、(iii)透明基板を介して光硬化性樹脂原料に光を照射して樹脂原料を硬化させ、それによって、微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンが形成されて成る成形品を得る工程を含んで成り、工程(i)のスタンパとして、微細パターンAの形成領域内に隆起パターンBが設けられたスタンパを用い、工程(ii)では、隆起パターンBを介在させてスタンパと透明基板とを一定の間隔で対向配置させる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
微細パターン成形品を製造する方法であって、
(i)微細パターンAを備えたスタンパと透明基板とを用意し、該スタンパまたは該透明基板上に光硬化性樹脂原料を供する工程、
(ii)前記光硬化性樹脂原料を挟むようにして前記スタンパと前記透明基板とを対向配置させる工程、および
(iii)前記透明基板を介して前記光硬化性樹脂原料に光を照射して該樹脂原料を硬化させ、それによって、前記微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンが形成された成形品を得る工程
を含んで成り、
前記工程(i)の前記スタンパとして、前記微細パターンAの形成領域内に隆起パターンBが設けられたスタンパを用意し、前記工程(ii)では、前記隆起パターンBが介在することにより前記スタンパと前記透明基板とが一定の間隔を空けて対向配置されることを特徴とする、製造方法。
IPC (3件)：
B29C 59/02
, B29C 33/42
, G02B 3/00
B29C59/02 Z
, B29C33/42
, G02B3/00 A
, G02B3/00 Z
4F202AG05
, 4F202AH73
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH74
, 4F209AJ01
, 4F209PA02
, 4F209PA15
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
