特許

J-GLOBAL ID：201203001264973357

導電膜の製造方法及び導電膜

発明者： 吉原 章仙
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-143309
公開番号（公開出願番号）：特開2012-009239
出願日： 2010年06月24日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
要約：

【課題】金属ナノワイヤの配線手法を簡易なものとし、導電膜の製造コストを低減することができ、大面積でも低抵抗で抵抗の均一性に優れ、かつ、光透過性が高く、軽量で柔軟性に富む導電膜の製造方法ならびにこの製造方法により得られた導電膜を提供する。【解決手段】 透明基材上に導電性パターンを有する導電膜を製造する方法であって、(a)透明基材表面に導電性繊維と導電性ポリマーとを含有する分散液を塗工する工程、(b)規則的な凹凸形状を有する鋳型を分散液側から透明基材表面に当接して、透明基材と鋳型の凹部との間に形成される空間に導電性繊維を含有する導電性パターンを形成する工程、を有することを特徴とする、導電膜の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基材上に導電性パターンを有する導電膜を製造する方法であって、 (a)透明基材表面に導電性繊維と導電性ポリマーとを含有する分散液を塗工する工程、(b)規則的な凹凸形状を有する鋳型を分散液側から透明基材表面に当接して、透明基材と鋳型の凹部との間に形成される空間に導電性繊維を含有する導電性パターンを形成する工程、 を有することを特徴とする、導電膜の製造方法。

IPC (5件)：

H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B32B 27/00 ,  B32B 27/18 ,  B32B 3/30

FI (7件)：

H01B13/00 503B ,  H01B13/00 503D ,  H01B5/14 A ,  H01B5/14 B ,  B32B27/00 A ,  B32B27/18 J ,  B32B3/30

Fターム (25件)：

4F100AA37A ,  4F100AB01A ,  4F100AB24 ,  4F100AD11A ,  4F100AK01A ,  4F100AK12 ,  4F100AK42 ,  4F100AK52A ,  4F100AK80 ,  4F100BA02 ,  4F100DD01A ,  4F100DG01A ,  4F100EH46A ,  4F100EJ39A ,  4F100HB21A ,  4F100JG01A ,  4F100JN01B ,  5G307FA02 ,  5G307FB02 ,  5G307FB03 ,  5G307FB04 ,  5G307FC10 ,  5G323BA05 ,  5G323BB06 ,  5G323CA05