特許
J-GLOBAL ID:201203001560109625
転写箔の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
金山 聡
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 藤枡 裕実
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-151622
公開番号(公開出願番号):特開2012-011711
出願日: 2010年07月02日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】 表面に凹凸が発生しにくく外観に優れ、しかも、材料費アップもなく、低コストで製造できる転写箔の製造方法を提供する。【解決手段】 (1)巻取状の基材11へ離型層12及び剥離層13を全面に形成する巻取工程と、(2)複数列の非スリット部分33A〜nのみを加熱して、該スリット部分31A〜n+1の離型層12と剥離層13との間の剥離力を非スリット部分33の剥離力の150%以上とする剥離力増加工程と、(3)複数列のスリット部分31A〜n+1でスリット加工しても、スリット部分が箔こぼれしないスリット工程と、からなり、剥離層13が透明樹脂層13A又は電離放射線硬化樹脂層13Bであることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持体10の一方の面へ剥離自在に転写層20Aが構成され、前記転写層20Aは幅方向に複数列のスリット部分31A、31B、31C、・・、31n、31n+1と複数列の非スリット部分33A、33B、33C、・・、33nとが交互に設けられ、かつ、前記転写層20Aは少なくとも透明樹脂層である剥離層13Aを有する層構成を有し、前記支持体10は基材11と離型層12との層構成からなり、前記剥離層13Aは前記離型層12と接するように層構成され、かつ、前記離型層12と前記剥離層13Aとの層間で剥離させることができ、幅方向に複数列のスリット部分と複数列の非スリット部分とが設けられてなる巻取状の転写箔1Aから、複数列のスリット部分でスリットして、1列の非スリット部分を有する転写箔1の製造方法であって、(1)巻取状の前記基材11へ離型層組成物を全面に塗布し乾燥して前記離型層12を形成し、該離型層12面へ剥離層組成物を全面に塗布し乾燥して前記剥離層13Aを形成して、巻取状の転写箔1Aを製造する巻取工程と、(2)前記複数列のスリット部分31A、31B、31C、・・、31n、31n+1のみを加熱して、該スリット部分31A、31B、31C、・・31n、31n+1の前記離型層12と前記剥離層13Aとの間の剥離力を前記非スリット部分33A、33B、33C、・・、33nの前記離型層12と前記剥離層13Aとの間の剥離力の150%以上とする剥離力増加工程と、(3)複数列の前記スリット部分31A、31B、31C、・・、31n、31n+1でスリット加工しても、スリット部分が箔こぼれしないで、1列の非スリット部分を有する転写箔1とすることのできるスリット工程と、からなることを特徴とする転写箔の製造方法。
IPC (3件):
B44C 1/165
, B44C 1/17
, B32B 27/00
FI (3件):
B44C1/165 A
, B44C1/17 A
, B32B27/00 E
Fターム (65件):
3B005EA02
, 3B005EB03
, 3B005EC11
, 3B005FB01
, 3B005FB03
, 3B005FB09
, 3B005FB11
, 3B005FB13
, 3B005FB18
, 3B005FB22
, 3B005FC02X
, 3B005FC02Y
, 3B005FC06X
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, 3B005FC07X
, 3B005FC07Y
, 3B005FC08X
, 3B005FC08Y
, 3B005FC09X
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, 3B005FC12X
, 3B005FC12Y
, 3B005FC20X
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, 3B005FE03
, 3B005FE04
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, 3B005FF00
, 3B005FF06
, 3B005FG01X
, 3B005FG02Z
, 3B005FG03X
, 3B005FG03Z
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, 3B005FG09Z
, 3B005FG11Z
, 3B005FG12X
, 3B005FG20Z
, 4F100AK01C
, 4F100AK25
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, 4F100AR00B
, 4F100AR00C
, 4F100AT00A
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, 4F100JB14C
, 4F100JL14B
, 4F100JL14C
, 4F100JN01C
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