特許

J-GLOBAL ID：201203001739823444

電子ビーム照射方法

発明者： 山口 広 ,  岡部 誠司 ,  大村 健
出願人/特許権者： JFEスチール株式会社
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  来間 清志 ,  山口 雄輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-177882
公開番号（公開出願番号）：特開2012-036443
出願日： 2010年08月06日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】ストリップ幅が変更した場合であっても、それに的確に対応して電子ビーム照射を行うことにより、板幅方向の鉄損値のバラツキを抑制することができる電子ビーム照射方法を提供する。【解決手段】複数の電子銃により、走行する金属ストリップの幅方向に連続して電子ビーム走査を行うに際し、照射対象となるストリップの位置変更に応じて、各電子銃の位置を、ストリップの幅方向に平行な方向およびストリップ面に対する上下方向の双方について調整する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の電子銃により、走行する金属ストリップの幅方向に連続して電子ビーム走査を行う電子ビーム照射方法において、照射対象となるストリップの位置変更に応じて、各電子銃の位置を、ストリップの幅方向に平行な方向およびストリップ面に対する上下方向の双方について調整することを特徴とする電子ビーム照射方法。

IPC (5件)：

C21D 8/12 ,  C21D 1/38 ,  C21D 9/56 ,  G21K 5/04 ,  G21K 5/10

FI (6件)：

C21D8/12 D ,  C21D1/38 A ,  C21D9/56 101Z ,  G21K5/04 E ,  G21K5/10 S ,  G21K5/04 S

Fターム (11件)：

4K033AA02 ,  4K033PA07 ,  4K033TA05 ,  4K033UA00 ,  4K043AA01 ,  4K043EA02 ,  4K043FA01 ,  5E041AA02 ,  5E041CA02 ,  5E041HB05 ,  5E041NN17