特許

J-GLOBAL ID：201203002382789737

RI化合物合成装置

発明者： 渡辺 利光
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-170832
公開番号（公開出願番号）：特開2012-031083
出願日： 2010年07月29日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：

【課題】複数の反応器を備えたRI化合物合成装置において、部品点数や制御点数の増加を防止する。【解決手段】熱電対101、エアヒータ102、エアクーラ103、吹出部104、スターラ105、放射線検出器106を可動ステージ110に設置して反応器周辺機器ユニット100を構成する。駆動ユニット150によって、RI化合物の合成を行う反応器60A〜60Dの対応位置に反応器周辺機器ユニット100を移動させる。これにより、反応器60A〜60D毎に反応器周辺機器ユニット100をそれぞれ備える必要がなくなり、部品点数や制御点数の増加を防止することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性同位元素及び試薬が導入される反応器を複数備えるRI化合物合成装置において、 前記反応器の周辺に配置される一又は複数の反応器周辺機器を含んで構成された反応器周辺機器ユニットと、 前記反応器周辺機器ユニットを、複数の前記反応器の対応位置に移動させる駆動手段と、 を備えることを特徴とするRI化合物合成装置。

IPC (2件)：

A61K 51/00 ,  G01T 1/161

FI (2件)：

A61K49/02 A ,  G01T1/161 D

Fターム (7件)：

2G088EE01 ,  2G088FF07 ,  2G088JJ36 ,  2G088JJ37 ,  4C085HH03 ,  4H006AA04 ,  4H006AC84