特許

J-GLOBAL ID：201203004281159867

外観検査装置及び外観検査方法

発明者： 田中 秀明 ,  千蔵 真也
出願人/特許権者： 株式会社サキコーポレーション
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-197946
公開番号（公開出願番号）：特開2012-053015
出願日： 2010年09月03日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：

【課題】被検査体の高さを少ない撮像回数で求める。【解決手段】外観検査装置10は、周期的に明るさが変化する第1縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第1投影画像を撮像する。外観検査装置10は、第1縞パターンとは異なる周期で明るさが変化する第2縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第2投影画像を撮像する。外観検査装置10は、第2縞パターンに対応する被検査体の計測点の明るさ変動の位相を、第1投影画像及び第2投影画像における当該計測点の明るさと、第1縞パターン及び第2縞パターンのそれぞれに対応する明るさ変動の既知の関係とに基づいて求める。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板と該基板に実装されている部品とを備える被検査体の表面の高さに基づいて該被検査体を検査する外観検査装置であって、 被検査体にパターンを投射するための投射部と、該パターンが投射された被検査体を撮像するための撮像部と、撮像された画像に基づいて被検査体の表面の高さを求める高さ測定部と、を備え、 前記投射部は、周期的に明るさが変化する第1周期パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射し、前記撮像部は、第1周期パターンの位相が互いに異なる複数の第1投影画像を撮像し、 前記投射部は、第1周期パターンとは異なる周期で明るさが変化する第2周期パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射し、前記撮像部は、第2周期パターンの位相が互いに異なる複数の第2投影画像を撮像し、 前記高さ測定部は、被検査体の高さ計測点の第2周期パターンによる周期的明るさ変動の位相を、第1投影画像及び第2投影画像における当該計測点の明るさと、第1周期パターン及び第2周期パターンのそれぞれに対応する周期的明るさ変動の既知の関係とに基づいて演算することを特徴とする外観検査装置。

IPC (4件)：

G01B 11/25 ,  G01N 21/956 ,  G01B 11/02 ,  G06T 1/00

FI (4件)：

G01B11/25 H ,  G01N21/956 B ,  G01B11/02 H ,  G06T1/00 305B

Fターム (54件)：

2F065AA24 ,  2F065AA53 ,  2F065BB02 ,  2F065CC26 ,  2F065CC27 ,  2F065CC28 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065GG13 ,  2F065GG17 ,  2F065GG21 ,  2F065GG22 ,  2F065GG23 ,  2F065HH01 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM02 ,  2F065NN01 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2F065UU01 ,  2G051AA65 ,  2G051AB14 ,  2G051BA01 ,  2G051BC01 ,  2G051CA04 ,  2G051DA07 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB13 ,  5B057CB16 ,  5B057CF05 ,  5B057DA03 ,  5B057DA17 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC09 ,  5B057DC22