特許
J-GLOBAL ID:201203006130855252

電極の製造方法、電極および有機エレクトロニクス素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-245954
公開番号(公開出願番号):特開2012-099340
出願日: 2010年11月02日
公開日(公表日): 2012年05月24日
要約:
【課題】本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高い導電性と透明性を維持しつつ、出力効率に優れる有機エレクトロニクス素子を与える電極を、低コストで製造することができる電極の製造方法を提供することにある。【解決手段】透明な基材上に透明導電性層を有し、該透明導電性層上に、金属を含有する金属組成物からなる金属パターン導電層のパターンを有し、該パターンの該金属パターン導電層上に絶縁層を有する電極の製造方法であって、(1)該パターン上に、該金属と配位結合能を有する基を有する配位化合物を含有する絶縁層用塗布液を供給する塗布液供給工程および、(2)該パターンの該金属パターン導電層が存在しない部分から、供給された該絶縁層用塗布液を除去する塗布液除去工程、を有する絶縁層作製工程を有することを特徴とする電極の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
透明な基材上に透明導電性層を有し、該透明導電性層上に、金属を含有する金属組成物からなる金属パターン導電層のパターンを有し、該パターンの該金属パターン導電層上に絶縁層を有する電極の製造方法であって、(1)該パターン上に、該金属と配位結合能を有する基を有する配位化合物を含有する絶縁層用塗布液を供給する塗布液供給工程および、(2)該パターンの該金属パターン導電層が存在しない部分から、供給された該絶縁層用塗布液を除去する塗布液除去工程、を有する絶縁層作製工程を有することを特徴とする電極の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/28 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (3件):
H05B33/28 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (16件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC04 ,  3K107CC27 ,  3K107CC29 ,  3K107CC45 ,  3K107DD11 ,  3K107DD22 ,  3K107DD24 ,  3K107DD42X ,  3K107DD43X ,  3K107DD44X ,  3K107DD46X ,  3K107DD47X ,  3K107GG06 ,  3K107GG28

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