特許

J-GLOBAL ID：201203006472126953

スクラバー及びスクラバーを備えた触媒再生及び回収システム

発明者： 永見 英人 ,  齋藤 俊輔 ,  桑原 寛治
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 加藤 久 ,  久保山 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-053250
公開番号（公開出願番号）：特開2012-187515
出願日： 2011年03月10日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】清浄水の補給を低減し、かつ、被処理ガス中の汚染物質の効率的な除去及び外部への排出の抑制を可能としたスクラバーを提供する。【解決手段】スクラバー10は、下段に設けられた第一充填層2及び上段に設けられた第二充填層3を配設した充填塔1を有する。第一充填層2には、貯水部5に蓄えられた循環洗浄水W1が散水管4から供給され、第二充填層3には、散水管7から清浄水W2が供給される。汚染物質を含む被処理ガスG1は、まず、第一充填層2にて循環洗浄水W1にて粗洗浄され、汚染物質濃度が低濃度となった被処理ガスG1を、第二充填層3にて清浄水W2によって気液接触させるため、清浄水W2の使用量が少なくても、汚染物質の除去性能に優れ、スクラバー10から外部に排出される排気ガス中の汚染物質の濃度を低減させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気液接触用の充填層を配設した充填塔にて、前記充填層の上部から散水しながら、前記充填層より下方から汚染物質を含む被処理ガスを供給することにより、前記充填層にて水と被処理ガスとを接触させて、被処理ガス中の汚染物質を除去した処理済ガスを排出するスクラバーであって、 前記充填層は、充填塔の下段に設けられた第一充填層と、充填塔の上段に設けられた第二充填層とからなり、 前記充填塔は、前記第一充填層より下方に形成された被処理ガス供給口と、前記第二充填層より上方に形成された処理済ガス排出口と、 前記第二充填層の上方に配設され、清浄水を散水する第一散水管と、 前記第一充填層と前記第二充填層との間に配設され、循環洗浄水を散水する第二散水管と、 第一充填層及び第二充填層にて気液接触後の洗浄水を貯留する貯水部と、 を備え、 かつ、前記貯水部に貯留した気液接触後の洗浄水を、第二散水管へ循環供給する送水機構を備えることを特徴とするスクラバー。

IPC (6件)：

B01J 10/00 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/77 ,  B01D 47/14 ,  B01J 38/48 ,  B01J 38/12

FI (5件)：

B01J10/00 102 ,  B01D53/34 E ,  B01D47/14 ,  B01J38/48 A ,  B01J38/12 B

Fターム (19件)：

4D002AA00 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002HA03 ,  4D032AC07 ,  4D032AC39 ,  4D032BA03 ,  4D032BB07 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075BB04 ,  4G075BD13 ,  4G075BD23 ,  4G075DA02 ,  4G075EB09 ,  4G075EC01