特許

J-GLOBAL ID：201203008308748385

含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法

発明者： 柿本 稔 ,  高石 和幸 ,  松本 伸弘
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (5件)： 小池 晃 ,  伊賀 誠司 ,  藤井 稔也 ,  野口 信博 ,  祐成 篤哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-284956
公開番号（公開出願番号）：特開2012-026027
出願日： 2010年12月21日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】 含銅塩化ニッケル溶液に含まれる銅を効率的に除去することができる含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法を提供する。【解決手段】 ニッケル硫化物10を塩素浸出して得られる含銅塩化ニッケル溶液11’から銅イオンを除去する銅イオン除去方法において、2価銅イオンを含有する含銅塩化ニッケル溶液11’にニッケル硫化物10を添加し、少なくとも、2価銅イオンを1価銅イオンに還元する第1の工程と、第1の工程を経て得られたスラリーに、ニッケルマット12及び塩素浸出残渣13を添加し、スラリーに含まれる1価銅イオンを硫化物として固定化する第2の工程とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ニッケル硫化物を塩素浸出して得られる含銅塩化ニッケル溶液から銅イオンを除去する銅イオン除去方法において、 上記含銅塩化ニッケル溶液にニッケル硫化物を添加し、少なくとも、該含銅塩化ニッケル溶液中の2価銅イオンを1価銅イオンに還元する第1の工程と、 上記第1の工程を経て得られたスラリーに、ニッケルマット及び上記塩素浸出の残渣を添加し、該スラリーに含まれる1価銅イオンを硫化物として固定化する第2の工程と を有することを特徴とする含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法。

IPC (5件)：

C22B 23/00 ,  C22B 23/06 ,  C22B 3/04 ,  C22B 3/44 ,  C25C 1/08

FI (5件)：

C22B23/00 102 ,  C22B23/06 ,  C22B3/00 B ,  C22B3/00 R ,  C25C1/08

Fターム (18件)：

4K001AA07 ,  4K001AA09 ,  4K001AA19 ,  4K001BA02 ,  4K001BA06 ,  4K001BA10 ,  4K001BA19 ,  4K001DB04 ,  4K001DB21 ,  4K001DB24 ,  4K001HA12 ,  4K058AA11 ,  4K058BA17 ,  4K058BB04 ,  4K058CA05 ,  4K058CA10 ,  4K058FC02 ,  4K058FC12