特許

J-GLOBAL ID：201203008486765714

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 増山 達郎 ,  山本 敏 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-267530
公開番号（公開出願番号）：特開2012-145924
出願日： 2011年12月07日
公開日（公表日）： 2012年08月02日
要約：

【課題】優れたCD均一性(CDU)のレジストパターンの製造。【解決手段】式(aa)、(ab)で表される構造単位を有する樹脂(X)及び酸発生剤(B)を含有する組成物。[式中、Aaa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基等;Raa2は、脂肪族炭化水素基;Rab2は芳香族炭化水素基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(aa)で表される構造単位及び式(ab)で表される構造単位を有する樹脂(X)と、 酸発生剤(B)とを含有するレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/18

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/18

Fターム (61件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA22Q ,  4J100BA22R ,  4J100BA28Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04T ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48Q ,  4J100BC48R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38