特許

J-GLOBAL ID：201203009806812747

蒸着装置

発明者： 重岡 伸之 ,  平野 竜也
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (5件)： 森 隆一郎 ,  志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  山崎 哲男 ,  松沼 泰史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-262585
公開番号（公開出願番号）：特開2012-112002
出願日： 2010年11月25日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
要約：

【課題】基板に入射する電子を効果的に減らす。【解決手段】蒸着装置1Aは、基板Pの表面に成膜材料を蒸着させる蒸着装置である。成膜材料50を蒸着可能な範囲として予め設定された所定の範囲A1に、基板Pの蒸着面Paを下方に向けて基板Pを配置可能な基板配置部3と、基板配置部3の下方に配置され、所定の範囲A1に放射される成膜材料50を収容する収容部4と、収容部4に電子ビームEBを照射する照射部5と、収容部4の側方に配置され、電子を吸着する吸着部6と、収容部4から所定の範囲A1に向う成膜材料50の放射範囲A2の外側における少なくとも吸着部6の上方に配置され、上方に向う電子を水平方向に偏向させる磁界M3を発生させる磁界発生部7と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の表面に成膜材料を蒸着させる蒸着装置であって、 前記成膜材料を蒸着可能な範囲として予め設定された所定の範囲に、前記基板の蒸着面を下方に向けて前記基板を配置可能な基板配置部と、 前記基板配置部の下方に配置され、前記所定の範囲に放射される前記成膜材料を収容する収容部と、 前記収容部に電子ビームを照射する照射部と、 前記収容部の側方に配置され、電子を吸着する吸着部と、 前記収容部から前記所定の範囲に向う前記成膜材料の放射範囲の外側における少なくとも前記吸着部の上方に配置され、上方に向う電子を水平方向に偏向させる磁界を発生させる磁界発生部と、を備えることを特徴とする蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C 14/30

FI (1件)：

C23C14/30 Z

Fターム (4件)：

4K029CA01 ,  4K029DA03 ,  4K029DB21 ,  4K029EA09