特許

J-GLOBAL ID：201203009819006960

水素生成装置

発明者： 藤原 誠二 ,  原田 千絵 ,  中嶋 知之 ,  鵜飼 邦弘 ,  脇田 英延
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 有古特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-113821
公開番号（公開出願番号）：特開2012-240893
出願日： 2011年05月20日
公開日（公表日）： 2012年12月10日
要約：

【課題】従来の水素生成装置に比べて、水添脱硫器による硫化水素の吸着容量が向上する水素生成装置を提供する。【解決手段】水素生成装置100は、原料を改質反応させ、水素含有ガスを生成する改質器20と、水素含有ガス中のCOをシフト反応により低減する変成器21と、変成器21を通過した水素含有ガス中のCOをメタン化反応及び酸化反応の少なくともいずれか一方により低減するCO除去器22と、原料中の硫黄化合物を除去する水添脱硫器23と、を備え、水添脱硫器23の下流側の少なくとも一部が、CO除去器22と熱伝導可能なように隣接している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原料を改質反応させ、水素含有ガスを生成する改質器と、 前記水素含有ガス中のCOをシフト反応により低減する変成器と、 前記変成器を通過した前記水素含有ガス中のCOをメタン化反応及び酸化反応の少なくともいずれか一方により低減するCO除去器と、 原料中の硫黄化合物を除去する水添脱硫器と、 を備える水素生成装置であって、 前記水添脱硫器の下流側の少なくとも一部が、前記CO除去器と熱伝導可能なように隣接していることを特徴とする水素生成装置。

IPC (1件)：

C01B 3/38

FI (1件)：

C01B3/38

Fターム (11件)：

4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB01 ,  4G140EB03 ,  4G140EB33 ,  4G140EB35 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17 ,  5H027DD05 ,  5H027MM12