デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-087453
公開番号（公開出願番号）：特開2012-138374
出願日： 2012年04月06日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】放射線源から照明器へ放射線が進む領域内でのガスの個別の提供が、その領域内のデブリ粒子の抑制に関連してはるかに少ない放射線源装置を提供すること。【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。照明システムは、放射線の発生によって解放されるデブリ粒子を抑制するためのデブリ抑制システムと、放射線を収集するための光学システムとを含む。デブリ抑制システムは、放射線源から光学システムへ放射線が進む経路内で、デブリ粒子を直接蒸発させるように、デブリ粒子を直接荷電するように、またはデブリ粒子からプラズマを直接発生させるように、あるいはそれらの任意の組合せを行うように配置される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線を発生するための放射線源と、放射線の前記発生によって解放されるデブリ粒子を抑制するためのデブリ抑制システムと、前記放射線を収集するための光学システムとを有する放射線源装置であって、前記デブリ抑制システムは、前記放射線源から前記光学システムへ前記放射線が進む経路内で、前記デブリ粒子を直接蒸発させるように、前記デブリ粒子を直接荷電するように、または前記デブリ粒子からプラズマを直接発生させるように、あるいはそれらの任意の組合せを行うように配置されている放射線源装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S

Fターム (11件)：

4C092AA06 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD01 , 4C092CF32 , 4C092CH12 , 4C092CJ19 , 5F146GA03 , 5F146GA21 , 5F146GA24 , 5F146GC12

引用特許：

審査官引用 (5件)

レーザプラズマX線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-311277 出願人：有限会社サイファー社
LPP光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-110393 出願人：ギガフォトン株式会社
プラズマの電磁波を生成および/または操作する装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-508117 出願人：インフィネオンテクノロジーズアクチエンゲゼルシャフト

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