特許
J-GLOBAL ID:201203011110965950

太陽電池モジュールの製造方法及び成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-267539
公開番号(公開出願番号):特開2012-119477
出願日: 2010年11月30日
公開日(公表日): 2012年06月21日
要約:
【課題】安定的に所望の抵抗率の酸化亜鉛膜を成膜可能な成膜工程を備えた太陽電池モジュールの製造方法、及び、安定的に所望の抵抗率の酸化亜鉛膜を成膜可能な成膜装置を提供すること。【解決手段】本太陽電池モジュールの製造方法は、CIS系光吸収層及び第1バッファ層が形成された基板上に、成膜室で前記第1バッファ層上に第2バッファ層として酸化亜鉛膜をイオンプレーティング法により成膜する成膜工程を有する太陽電池モジュールの製造方法であって、前記成膜工程は、予め把握した前記酸化亜鉛膜の抵抗率と前記成膜室内の水蒸気分圧との関係に基づいて、前記成膜室内の水蒸気分圧を制御して前記抵抗率を調整する抵抗率調整工程を備える。【選択図】図5
請求項(抜粋):
CIS系光吸収層及び第1バッファ層が形成された基板上に、成膜室で前記第1バッファ層上に第2バッファ層として酸化亜鉛膜をイオンプレーティング法により成膜する成膜工程を有する太陽電池モジュールの製造方法であって、 前記成膜工程は、予め把握した前記酸化亜鉛膜の抵抗率と前記成膜室内の水蒸気分圧との関係に基づいて、前記成膜室内の水蒸気分圧を制御して前記抵抗率を調整する抵抗率調整工程を備えることを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。
IPC (1件):
H01L 31/04
FI (1件):
H01L31/04 E
Fターム (4件):
5F151AA10 ,  5F151CB14 ,  5F151FA06 ,  5F151GA03

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