特許
J-GLOBAL ID：201203018371191205
フォトマスクブランク、フォトマスクおよび基板再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-159568
公開番号（公開出願番号）：特開2012-022124
出願日： 2010年07月14日
公開日（公表日）： 2012年02月02日
要約：
【課題】液晶表示装置用のフォトマスクおよびフォトマスクブランクに関し、アルカリ洗浄による基板の段差が生じるために基板の再生時に必要とされていた研磨工程を不要として、低コストかつ高品質な基板再生が行われて再利用を可能とするフォトマスクおよびフォトマスクブランクを提供すること。【解決手段】透明基板上に、ジルコニウムを含む無機化合物からなる光透過膜と、金属を含み露光光を遮光する遮光膜とを備えたことを特徴とする。また、遮光膜および半透過膜をエッチングにより除去し、前記基板をアルカリ溶液により洗浄処理した後、基板の研磨処理を行わずに半透過膜および遮光膜を積層することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に、ジルコニウムを含む無機化合物からなる光透過膜と、金属を含み露光光を遮光する遮光膜とを備えたことを特徴とするフォトマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F 1/60
, G03F 1/68
, H01L 21/027
G03F1/14 B
, G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BC26
, 2H095BC27
