特許

J-GLOBAL ID：201203021048766461

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  釜淵 明 ,  金 亨柱
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-084450
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226339
出願日： 2012年04月03日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

【課題】CD均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)式(I)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)酸発生剤及び(D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、環T1は、置換基を有していてもよいスルトン環;X1はアルカンジイル基;X2は、酸素原子等を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)式(I)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)酸発生剤及び (D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/38

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/38

Fターム (35件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA15P ,  4J100BA34P ,  4J100BC84P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38