特許

J-GLOBAL ID：201203021293180294

グラフェンシート付き基材及びその製造方法

発明者： 島田 浩行
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  大浪 一徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-172165
公開番号（公開出願番号）：特開2012-031011
出願日： 2010年07月30日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：

【課題】大面積かつ低抵抗のグラフェンシートを備えたグラフェンシート付き基材、及び、このグラフェンシート付き基材を安価に製造することが可能なグラフェンシート付き基材の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のグラフェンシート付き基材1は、結晶方位が(111)面のシリコン基板2に、エピタキシャル成長させた立方晶炭化珪素層3、グラフェンシート4が順次積層されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリコン基板上または基板上に形成された単結晶シリコン膜上に、立方晶炭化珪素層、グラフェンシートを順次積層してなることを特徴とするグラフェンシート付き基材。

IPC (1件)：

C01B 31/36

FI (1件)：

C01B31/36 601S

Fターム (11件)：

4G146MA14 ,  4G146MB07 ,  4G146MB11 ,  4G146MB12 ,  4G146MB23 ,  4G146NA13 ,  4G146NA27 ,  4G146PA06 ,  4G146PA09 ,  4G146PA11 ,  4G146PA17